日經(jīng)亞洲：中國可能成為荷蘭和日本后第三個獨立制造光刻機的國家

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全球半導體設備市場正在悄悄發(fā)生大變化，過去光刻機一直被認為是中國芯片產(chǎn)業(yè)最大的短板，被稱為“半導體工業(yè)皇冠上的明珠”，很多人覺得中國芯片卡在這一步很難突破，但現(xiàn)在隨著外部壓力變成了創(chuàng)新動力，中國正在加快步伐，努力突破光刻機技術(shù)。

根據(jù)《日經(jīng)亞洲》等媒體的觀察，中國很有可能成為繼荷蘭和日本之后，全球第三個能自己造全套光刻機的國家，這個判斷不是空穴來風，而是因為最近中國在光刻機關鍵技術(shù)上取得了不少實際進展。

比如上海微電子在浸沒式光刻機領域不斷攻關，還有一些初創(chuàng)公司在專用設備上也有突破，中國正在打造一條從成熟芯片到特色工藝的技術(shù)防線，希望在全球半導體產(chǎn)業(yè)鏈的變化中找到自己的新機會。

以前大家關注中國光刻機，總是拿它和荷蘭ASML的高端極紫外設備去比較，覺得中國只有造出這種機器才算厲害，但這種單一的對比其實忽略了產(chǎn)業(yè)發(fā)展的真實情況。

實際上中國光刻機的發(fā)展是“兩條腿走路”，一方面在高端硅基芯片領域穩(wěn)步追趕，另一方面在化合物半導體等新領域，通過差異化來搶占市場。

2025年12月上海芯上微裝科技成功交付了AST6200型350納米步進光刻機，這臺設備雖然制程節(jié)點不是最先進，但它的技術(shù)參數(shù)正好滿足了現(xiàn)在第三代半導體市場的需求，專門解決了行業(yè)里的實際問題，這也說明中國光刻機企業(yè)正在用更靈活、更實用的方式參與全球競爭。

行業(yè)數(shù)據(jù)顯示這臺光刻機的套刻精度，正面能做到80納米，背面是500納米，而且能兼容碳化硅、氮化鎵等多種新型半導體材料，這對于5G基站、新能源汽車的電控系統(tǒng)、還有Micro LED顯示屏等芯片制造來說完全夠用，更關鍵的是這臺設備國產(chǎn)化率高達83%，幾乎所有核心零部件都是中國制造。

成熟制程的芯片占了全球需求的70%，中國現(xiàn)在先把這塊市場穩(wěn)住，積累經(jīng)驗再逐步去沖擊高端領域，這樣做避免了只盯著高端，結(jié)果兩頭落空的局面，轉(zhuǎn)而用差異化競爭來搶占市場，很多人士認為這種做法更加現(xiàn)實，也能幫中國企業(yè)建立起自己的“護城河”。

中國的進步也引起了國際上的反應，荷蘭的企業(yè)在高端設備上還保持壟斷，日本也在調(diào)整自己的出口政策。

2025年中國半導體設備進口量依舊很高，但國產(chǎn)設備的替代速度也在加快，荷蘭阿斯麥的報告顯示，中國市場占了它銷售額的42%，中國對進口設備還有依賴，但像SSA600這種國產(chǎn)設備已經(jīng)能用在90納米的生產(chǎn)線上。

放在全球視角來看，中國正在努力影響整個供應鏈，荷蘭ASML自己也承認，想徹底“脫鉤”其實很難，全球合作依然是主流，但地緣政治的壓力讓分離變得更加現(xiàn)實。

中國一方面大量囤積設備應對短期風險，另一方面加快本土技術(shù)開發(fā)，2025年的銷售數(shù)據(jù)說明中國還有依賴，但自主率正在逐步提升，中國企業(yè)也通過專利保護自己的成果，吸引更多投資。

中國光刻機的發(fā)展之路還充滿不確定性，但已經(jīng)有了實際進展，比如28納米設備的測試，未來幾年重點會放在產(chǎn)品的商業(yè)化和可靠性上，國際媒體也在持續(xù)關注，評估中國光刻機的影響力，這不僅僅是技術(shù)比拼，更是一場全球戰(zhàn)略的較量。

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