就在美國和中國在以芯片為核心打科技戰(zhàn)的關(guān)頭，印度發(fā)了一個大新聞：開發(fā)尺寸小于1納米級的“埃級”芯片。

4月21日消息，印度聯(lián)合新聞社發(fā)布文章表示，印度頂尖研究機構(gòu)印度科學(xué)研究所（IISc）的30名科學(xué)家團隊聯(lián)合向政府提交了一份開發(fā)“埃級”芯片的議案，旨在開發(fā)一種使用新型半導(dǎo)體材料（稱為二維材料）的技術(shù)，該技術(shù)可使芯片尺寸縮小至目前全球生產(chǎn)的最小芯片尺寸的十分之一，并鞏固印度在半導(dǎo)體領(lǐng)域的領(lǐng)先地位。

1納米等于1000埃米，進入埃米級尺度，差不多到了單原子級別?，F(xiàn)在硅基半導(dǎo)體，最先進生產(chǎn)工藝發(fā)展到3nm，僅三星、臺積電、英特爾有能力進行生產(chǎn)，芯片第一生產(chǎn)大國中國大陸也僅只能勉強造出7nm的芯片。

而在半導(dǎo)體制造方面嚴重依賴外國的印度突然表現(xiàn)出它們的雄心壯志，要把這些牛人都干趴！

實際上三哥的“科學(xué)家”不是第一次提出這個宏偉藍圖的。早在2022年4月，印度科學(xué)研究所（IISc）就提過一份詳細的項目報告，同年10月它們修過后再次提交了，IISc希望用石墨烯和過渡金屬二硫化物等超薄材料來開發(fā)二維半導(dǎo)體。

所謂二維材料是指電子僅可在兩個維度的非納米尺度（1-100nm）上自由運動（就是平面運動）的材料，如納米薄膜、超晶格、量子阱。

石墨烯二維材料的起源與發(fā)展

石墨烯是一種天然的半金屬二維材料，它最早由英國曼徹斯特大學(xué)物理學(xué)家安德烈·蓋姆和同事諾沃肖洛夫通過撕粘在石墨上的膠帶獲得。

蓋姆用過的膠帶現(xiàn)在收藏在瑞典諾貝爾博物館

我嚴重懷疑三哥會利用印度龐大的人口優(yōu)勢，給印度人都發(fā)膠帶來生產(chǎn)石墨烯，要不然再大的腦洞也無法解釋，三哥如何突破由中國、美國、韓國、日本把持了66%的生產(chǎn)專利技術(shù)限制。

在三哥這個報告之前，二維材料就引起了廣泛關(guān)注。歐洲已投資超過10億美元（約合830億盧比），韓國投資超過3億盧比，中國和日本等國家也對基于二維材料的半導(dǎo)體研究進行了大規(guī)模但未公開的投資。

今年3月，我國科學(xué)院物理研究所/松山湖材料實驗室通過原子級制造的范德華擠壓技術(shù)，制備出原子極限厚度的各種二維金屬。而且實驗設(shè)備價格已經(jīng)降到了幾萬元的水平，可以得到鉍、錫、鉛、銦、鎵等的單原子層金屬。

單層二硫化鉬封裝的二維金屬鉍

我國的二維半導(dǎo)體材料與場效應(yīng)晶體管（FET）已經(jīng)于去年9月搭載在“實踐十九號”衛(wèi)星上，被安置在衛(wèi)星艙壁與防隔熱層之間，直接暴露于太空強輻射以及發(fā)射/回收階段的強烈振動沖擊等復(fù)雜環(huán)境中，以驗證二維過渡金屬硫族化合物（TMDCs）材料的在軌適應(yīng)性。

而印度在二維材料方面，可以說是默默無聞，也不知是誰給他們的勇氣要率先突破“埃級”芯片的？更不要說在世界芯片生產(chǎn)領(lǐng)域毫無地位的印度，如何鞏固它們的“領(lǐng)先地位”？