廣西
中國刻蝕機未來5到10年內(nèi)做到國際領(lǐng)先水平。
大家都知道我國刻蝕機近年來發(fā)展迅速，在技術(shù)水平和市場份額等方面都取得了顯著成就，目前已經(jīng)成為我國最具優(yōu)勢的半導體設備領(lǐng)域之一。而且近日中微電子董事長尹志饒也公開表示中國刻蝕機實現(xiàn)100%國產(chǎn)化，未來5到10年內(nèi)做到國際領(lǐng)先水平。
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