大家都知道，在芯片制造流程中，光刻機非常重要，是最核心的設(shè)備之一，其光刻成本占總晶圓制造成本的三分之一，光刻時間，占到整個工藝的40%以上。

但大家不知道的是，光刻中不僅光刻機重要，另外還需要一種特別重要的東西，這種東西，目前國內(nèi)技術(shù)嚴(yán)重落后于國內(nèi)際水平，還在100nm+的水平，高度依賴美、日、歐企業(yè)，可以說是被嚴(yán)重卡著脖子的。

這種產(chǎn)品就叫做光罩，也有說叫做它是光掩膜板的。

光刻機的原理，就是光線照射光罩，將光罩上的芯片電路圖，投射到涂有光刻膠的晶圓表面，最后再進(jìn)行蝕刻等，形成芯片。

所以光罩就相當(dāng)于芯片的母板，沒有這個母板，怎么制造芯片？設(shè)計圖上的電路圖，可沒法直接投射至硅晶圓上的。

這個光罩，是一種高純度石英玻璃基板，制造成成品光罩時，需要歷經(jīng)幾十道工序，才能將芯片電路圖精準(zhǔn)的刻畫到上面。

一般光罩上的圖案是電路設(shè)計圖的 4 倍，光刻機投射光罩時，利用光線成像原理，將圖像再縮小至光罩的四分之一刻至硅晶圓上，就形成了精準(zhǔn)的芯片電路。

光罩上的電路圖的精準(zhǔn)度，平整度有嚴(yán)格要求，所以制造光罩對材料、技術(shù)等的要求非常高。

目前整個光罩的核心技術(shù)，掌握在美國、日本、歐洲的企業(yè)手中，它們擁有著高端光罩制造材料、核心技術(shù)，以及尖端設(shè)備。

而國內(nèi)也有一些能制造光罩的企業(yè)，比如清溢光電、路維光電和龍圖光罩等，但大家支持的工藝，很多還在100nm+，嚴(yán)重落后國際水平，完全不能滿足當(dāng)前國內(nèi)芯片制造的需求。

國內(nèi)現(xiàn)有的100nm以下的光罩，大多都是買日本、美國等企業(yè)涂膠好的版回來，如果對方不賣給我們，會是什么后果，這個大家懂的吧。

所以說，雖然大家都知道光刻機重要，也都在關(guān)注光刻機，覺得只要搞定EUV，我們的芯片產(chǎn)業(yè)就高枕無憂了，但其實我們要補的課還很多，芯片產(chǎn)業(yè)是一個系列工程，并不是有一臺機器就行的，還需要各種配套技術(shù)、材料、設(shè)備等，比如光罩，光刻膠等等，都需要突破。