8月27日消息，據(jù)臺媒報道，中國臺灣地區(qū)高等檢察署智能財產(chǎn)分署偵辦的臺積電2nm核心關鍵技術營業(yè)秘密遭非法竊取案已偵查結束，并于8月27日依照中國臺灣地區(qū)“安全法”核心關鍵技術營業(yè)秘密之域外使用罪、“營業(yè)秘密法”意圖域外使用而竊取營業(yè)秘密罪、竊取營業(yè)秘密罪等罪嫌，起訴涉案3名工程師陳力銘、吳秉駿及戈一平，全案預計下周移審智慧財產(chǎn)及商業(yè)法院。

報道稱，高檢署智財分署查出，TEL是臺積電其他制程蝕刻機供應商，想切入2nm制程，因此以測試方式尋求蝕刻機站點供應資格，但測試最終失敗，而跳槽到TEL工作的前臺積電工程師陳力銘，找上過往同事、臺積電現(xiàn)任工程師吳秉駿及戈一平，通過遠端登入臺積電遠端數(shù)據(jù)庫系統(tǒng)方式，查看機密檔案并翻拍多張照片，借此改善蝕刻機臺表現(xiàn)等，其中有10多張照片涉核心機密，后因臺積電察覺有異，展開內(nèi)部調(diào)查并于今年7月8日向高檢署提告。

檢方獲報后于7月25日至28日指揮調(diào)查局發(fā)動多波搜索及約談行動，審訊后將陳等3人聲押禁見獲準；據(jù)悉，3人均坦承犯行，并爭取希望依臺灣地區(qū)安全法減刑。

檢方認為，本案事涉地區(qū)產(chǎn)業(yè)命脈的國家核心關鍵技術，嚴重威脅半導體產(chǎn)業(yè)國際競爭力，3人犯罪情節(jié)重大，對陳力銘依涉營業(yè)秘密法“意圖域外使用而竊取營業(yè)秘密罪”申請執(zhí)行有期徒刑5年、“竊取營業(yè)秘密”申請執(zhí)行有期徒刑3年、地區(qū)安全法“臺灣地區(qū)核心關鍵技術營業(yè)秘密之域外使用”罪申請執(zhí)行有期徒刑8年，數(shù)罪并罰申請執(zhí)行有期徒刑14年。

吳秉駿涉“意圖域外使用而竊取營業(yè)秘密罪”申請執(zhí)行有期徒刑4年、“臺灣地區(qū)核心關鍵技術營業(yè)秘密之域外使用罪”申請執(zhí)行有期徒刑7年，兩罪并罰申請執(zhí)行有期徒刑9年。

戈一平涉犯“臺灣地區(qū)核心關鍵技術營業(yè)秘密之域外使用罪”，申請執(zhí)行有期徒刑7年。

檢方表示，已分案續(xù)查是否有法人及自然人涉有相關刑事責任。此外，本案另有3名被告涉營業(yè)秘密法告訴乃論刑責，因臺積電表明不提出告訴，檢方因此予以簽結。

編輯：芯智訊-浪客劍