芯片制造用最核心的設備之一光刻機，發(fā)展到現(xiàn)在，已經(jīng)經(jīng)歷了6代。

每一代都對應著不同的芯片工藝，比如干式DUV光刻機，是第四代，也就是ArF光刻機，采用193nm波長，可以用于制造65nm的芯片。

而第五代則是ArFi光刻機，也稱之為浸潤式DUV光刻機，同樣是193nm的波長，但經(jīng)過一層水的介質(zhì)后，等效于134nm，可以用于制造7nm，甚至5nm的芯片。

但5nm以下的芯片，浸潤式DUV光刻機就真的不行了，必須使用到第六代，也就是EUV光刻機。

目前能夠制造EUV光刻機的廠商，全球就ASML一家，而能制造浸潤式DUV光刻機的廠商，除了ASML之外，還有尼康一家。

而中國大陸的水平，還在干式DUV光刻機，也就是理論工藝65nm，通過多重曝光后，理論是28nm的水平。

這對于我們而言，肯定是不夠的，所以一直以來，別說EUV光刻機，大家都期待能夠國產(chǎn)浸潤式DUV光刻機。

不過，從現(xiàn)在的情況來看，國產(chǎn)浸潤式DUV光刻機，應該只差最后一步了。

一臺光刻機，有三大核心，分別是光源系統(tǒng)、物鏡系統(tǒng)、工作臺這么三部分。

干式DUV光刻機，國內(nèi)已經(jīng)能夠制造了。所以干式DUV的光源系統(tǒng)，物鏡系統(tǒng)，工作臺，我們的技術(shù)都實現(xiàn)了。

而浸潤式DUV光刻機，與干式DUV光刻機，只有一個區(qū)別，那就是多了一套浸潤式系統(tǒng)，這套浸潤式系統(tǒng)，說的簡單一點，就是在晶圓上加了一層水。

193nm波長的光線，通過這層水折射變，變成了134nm，然后再去照射硅晶圓，將光掩模板上的芯片電路圖，刻錄至硅晶圓上。

很明顯，只要搞定了浸潤式系統(tǒng)，再利用現(xiàn)有的光源系統(tǒng)，物鏡系統(tǒng)，工作臺，不就是浸潤式DUV光刻機了么？

所以說，真的只差最后一步了，但是這一步并不容易，因為浸潤式系統(tǒng)，說起來就是一層水，但這一套系統(tǒng)可不簡單，涉及到了力學、材料學、物理學、光學等。

但不管怎么樣，這一步我們一定會跨過去的，估計時間也不會太久了，畢竟ASML 20年前的技術(shù)，我們沒道理還搞不定嘛。