上海
財聯(lián)社10月15日電，受極紫外（EUV）和深紫外（DUV）光刻設(shè)備強勁需求推動，阿斯麥或?qū)⒃?030年實現(xiàn)440-600億歐元的營收目標(biāo)。按520億歐元的中值計算，2025至2030年間年銷售額增長率可達10%。面向1.4納米、1.0納米及亞1.0納米芯片的新一代EUV設(shè)備訂單預(yù)計將從2025或2026年開始快速增長，其售價可能較傳統(tǒng)EUV設(shè)備高出50%-100%。
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