等離子去膠機(jī)特別適合于大學(xué)，科研院所和微電子、半導(dǎo)體企業(yè)實(shí)驗(yàn)室，對(duì)電路板、外延片、芯片、環(huán)氧基樹(shù)脂、MEMS制造過(guò)程中犧牲層，干刻或濕刻處理前或后，對(duì)基材進(jìn)行聚合物剝離、金屬剝離、掩膜材料等光刻膠去除，以及晶圓表面預(yù)處理等。
國(guó)內(nèi)等離子去膠機(jī)十大品牌哪個(gè)好？
一、華儀行（北京）科技：專(zhuān)注材料表面處理技術(shù)，在微電子、半導(dǎo)體、新能源、線(xiàn)路板、LED、微流控、光電太陽(yáng)能、生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域，為客戶(hù)提供清洗、去膠、刻蝕、涂層等方面儀器裝備和應(yīng)用工藝解決方案。
華儀行等離子去膠機(jī)特點(diǎn)：
◆7寸彩色觸摸屏互動(dòng)操作界面，自動(dòng)控制監(jiān)測(cè)工藝參數(shù)狀態(tài)，20個(gè)配方程序，工藝數(shù)據(jù)可存儲(chǔ)追溯。
◆PLC工控機(jī)控制整個(gè)去膠過(guò)程，手動(dòng)、自動(dòng)兩種工作模式。
◆石英真空艙，全真空管路系統(tǒng)采用316不銹鋼材質(zhì)，耐腐蝕無(wú)污染。
◆可選用石英舟，更適合晶元硅片去膠應(yīng)用。
◆采用花灑式多孔道進(jìn)氣方式，改變單孔進(jìn)氣不均勻問(wèn)題。
◆采用防腐數(shù)字流量計(jì)，實(shí)現(xiàn)對(duì)氣體輸入精準(zhǔn)控制。標(biāo)配雙路氣體輸送系統(tǒng)，可選多氣路氣體輸送系統(tǒng)，氣體分配均勻。可輸入氧氣、氬氣、氮?dú)?、氫氣或混合氣等氣體。
◆HEPA高效過(guò)濾，氣體返填吹掃，防止二次污染。
◆處理高效均勻，效率高，工藝重復(fù)性好。
◆樣品處理溫度低，無(wú)熱損傷和熱氧化。
◆安全保護(hù)，艙門(mén)打開(kāi)，自動(dòng)關(guān)閉電源，機(jī)器運(yùn)行、停止提示。

二、華創(chuàng)精儀：注重產(chǎn)品實(shí)用性和可靠性，性?xún)r(jià)比高，售后服務(wù)網(wǎng)絡(luò)覆蓋較廣。
三、晟鼎精密：在等離子去膠設(shè)備領(lǐng)域擁有十余年技術(shù)積累，其設(shè)備強(qiáng)調(diào)工藝適配性與穩(wěn)定性，覆蓋半導(dǎo)體前道晶圓制造與后道封裝需求，已在國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈中廣泛應(yīng)用。
四、賽森電子：其等離子去膠機(jī)在性能和質(zhì)量方面有一定表現(xiàn)。
五、善準(zhǔn)科技：提供適用于光刻膠去除、芯片去膠等工藝的等離子去膠機(jī)設(shè)備。
六、金徠技術(shù)：其等離子去膠機(jī)具有清洗材料表面物、提高材料表面親水性、改善材料表面附著力等優(yōu)勢(shì)，應(yīng)用于新能源及汽車(chē)制造、半導(dǎo)體集成電路等多個(gè)行業(yè)。
七、誠(chéng)峰智造：其研發(fā)的等離子設(shè)備具有低噪音、無(wú)污染和低成本、高性?xún)r(jià)比的特點(diǎn)，性能穩(wěn)定，使用壽命長(zhǎng)。
八、方瑞科技：專(zhuān)注于真空及常壓等離子表面處理設(shè)備的研發(fā)、生產(chǎn)等。
九、匯德信科技：與多家國(guó)際知名科研院所有著緊密的合作，在等離子去膠機(jī)領(lǐng)域也有一定的市場(chǎng)份額。
十、創(chuàng)威納科技：在等離子技術(shù)應(yīng)用方面有一定的技術(shù)積累。