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10月10日，深圳市政府新聞辦舉行新聞發(fā)布會，一場關于未來科技格局的重磅消息悄然釋放。

深圳市發(fā)展和改革委員會主任郭子平在介紹即將于10月15日至17日舉辦的2025灣區(qū)半導體芯片展（灣芯展）時，向全球投下一顆“深水炸彈”：“請大家拭目以待，新凱來將帶來意想不到的驚喜！”

這句簡短卻極具分量的預告，瞬間點燃了科技圈與資本市場的熱情。

究竟什么是“驚喜”？新凱來，這家由深圳市國資委全資控股的神秘企業(yè)，正站在中國半導體突圍戰(zhàn)的最前沿。

一顆“備胎”的重生

在中國科技自立自強的征程上，總有一些名字悄然崛起，承載著突破封鎖、重塑格局的使命。新凱來（SiCarrier），正是這樣一家肩負重任的企業(yè)。

它由深圳國資委通過深圳市重大產業(yè)投資集團全資控股，是國家戰(zhàn)略與地方力量協(xié)同發(fā)力的典范。

而真正讓它備受矚目的，是其深厚的技術基因脫胎于華為2012實驗室“星光工程部”。

“星光工程部”曾是華為面向未來技術布局的“燈塔”之一，長期聚焦光學設計、精密機械、電子電氣系統(tǒng)、先進材料等前沿領域，匯聚了大批頂尖博士與行業(yè)專家。

在外部環(huán)境劇變的背景下，這支精銳團隊的部分技術成果與核心人才被注入新凱來，使其自誕生起就站在了高起點上。

如今，新凱來正以驚人的速度，將實驗室的前沿研究轉化為產業(yè)級的硬科技產品。其使命清晰而堅定：突破半導體設備領域的“卡脖子”技術，構建自主可控的國產化產業(yè)鏈。

全鏈條出擊，專攻“硬骨頭”

半導體制造是現代工業(yè)的“皇冠”，而設備則是這頂皇冠上的“明珠”。

與許多只聚焦單一設備的國產廠商不同，新凱來從一開始就選擇了最難也最正確的路：全鏈條布局。

在薄膜沉積領域，其ALD（原子層沉積）和PVD（物理氣相沉積）設備已實現量產，低溫等離子體增強技術可降低加工溫度100℃，大幅提升良率；

在刻蝕環(huán)節(jié)，基于“靜電卡盤”專利（CN114121657A）的刻蝕設備，有效解決高溫工藝中晶圓損傷難題；

在量檢測這一長期被科磊（KLA）壟斷的“高地”，新凱來推出多波長干涉系統(tǒng)，檢測精度提升20%，打破“有產線無檢測”的困局；

更令人矚目的是，其已進軍光刻機領域，成功研發(fā)適用于 300mm 晶圓的 28nm 浸潤式光刻系統(tǒng)，關鍵技術參數對標國際先進水平。

這不僅是產品的堆疊，更是生態(tài)的構建。

新凱來研發(fā)中心配備300mm晶圓測試線，與中芯國際、長江存儲等頭部晶圓廠深度聯(lián)動，實現“研發(fā)-驗證-迭代”閉環(huán)，真正打通國產設備落地的“最后一公里”。

繞開EUV，劍指5nm

在美國嚴密封鎖EUV光刻機的背景下，新凱來提出了一條務實而極具戰(zhàn)略眼光的技術路徑：以深紫外（DUV）光刻 + 自對準四重成像（SAQP）工藝為核心，挑戰(zhàn)7nm/5nm先進制程。

這條技術路線雖更具挑戰(zhàn)，但完全規(guī)避了對ASML EUV設備的依賴。

據透露，新凱來已攻克SAQP多重曝光中的套刻精度與良率控制難題，5nm工藝驗證取得突破性進展，3nm技術研發(fā)也已啟動。

這不僅是一場技術攻堅，更是一次戰(zhàn)略突圍——讓中國芯片制造，在封鎖中走出自己的路。

灣芯展將至，驚喜已在路上

10月15日，深圳“灣芯展”即將開幕。

深圳市發(fā)改委已公開預告：新凱來將帶來“意想不到的驚喜”。

市場傳言，其子公司“萬里眼”將發(fā)布高速實時示波器，補齊高端測試設備短板；“啟云方”或將推出支持先進封裝的新型涂膠顯影設備。

更有消息稱，其DUV光刻機已進入客戶驗證階段，2026年量產目標正加速推進。

與此同時，國家層面對英偉達、高通的反壟斷調查接連落地，表面是法律行動，實則是戰(zhàn)略對沖。

當中國擁有了可替代的國產設備與芯片體系，才有底氣對全球巨頭說“不”。

國產之光，正在破曉

新凱來不是孤軍奮戰(zhàn)。它的背后，是深圳國資的堅定支持，是華為“備胎轉正”的技術傳承，是數萬名工程師日夜不休的攻堅。

它代表的，是中國半導體產業(yè)信心的覺醒，從被動等待“解禁”，到主動構建“閉環(huán)”；從依賴“引進消化”，到堅持“自主原創(chuàng)”。

三年時間，從無到有，從有到強。新凱來，這顆由“星光”孕育的種子，正在破土而出，迎接屬于中國半導體的黎明。