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9月24日消息，據(jù)韓媒報(bào)道，SK 海力士計(jì)劃在未來兩年內(nèi)新購置約 20 臺(tái) ASML 的 EUV 光刻系統(tǒng)。

考慮到 SK 海力士目前持有約 20 臺(tái)用于研發(fā)和生產(chǎn)的 EUV 機(jī)臺(tái)，這意味著這家存儲(chǔ)巨頭對(duì)此類設(shè)備的保有規(guī)模將在兩年內(nèi)翻倍。

EUV設(shè)備價(jià)格極其高昂，每臺(tái)價(jià)值在3000億至5000億韓元之間，且全球僅荷蘭ASML一家能夠生產(chǎn)。按單價(jià)計(jì)算，SK海力士此次投資規(guī)模預(yù)計(jì)至少在6萬億韓元以上。

這些設(shè)備將被陸續(xù)引進(jìn)并分布安裝在清州M15X工廠和利川M16工廠。M15X計(jì)劃在今年底投產(chǎn)，將率先配置EUV設(shè)備；M16則會(huì)根據(jù)工藝轉(zhuǎn)換（Tech Migration）的路線圖逐步引入。

一位熟悉情況的業(yè)內(nèi)人士透露：“SK海力士正在考慮提前啟動(dòng)新的EUV生產(chǎn)線，并與ASML保持緊密協(xié)商，以加快設(shè)備交付速度?！?/p>

在 SK 海力士的兩大業(yè)務(wù)領(lǐng)域中，內(nèi)存端的 EUV 光刻工藝早已隨著 2021 年的 1a nm DRAM 實(shí)現(xiàn)商業(yè)化，EUV 的應(yīng)用規(guī)模也在隨著內(nèi)存世代演進(jìn)穩(wěn)步提升。

而由于 AI 發(fā)展對(duì)企業(yè)級(jí)高性能存儲(chǔ)尤其是 HBM 需求的提升，SK 海力士需要更多的 EUV 設(shè)備來擴(kuò)大先進(jìn) DRAM 內(nèi)存的生產(chǎn)規(guī)模。

除目前主要應(yīng)用的 Low-NA EUV 光刻機(jī)，SK 海力士本月早些時(shí)候還在存儲(chǔ)器業(yè)界引進(jìn)了首臺(tái)量產(chǎn)型 High-NA EUV 光刻機(jī)，即 ASML 的 TWINSCAN EXE:5200B，部署在韓國利川 M16 生產(chǎn)基地中。

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