上海
財(cái)聯(lián)社10月15日電，受極紫外（EUV）和深紫外（DUV）光刻設(shè)備強(qiáng)勁需求推動(dòng)，阿斯麥或?qū)⒃?030年實(shí)現(xiàn)440-600億歐元的營收目標(biāo)。按520億歐元的中值計(jì)算，2025至2030年間年銷售額增長率可達(dá)10%。面向1.4納米、1.0納米及亞1.0納米芯片的新一代EUV設(shè)備訂單預(yù)計(jì)將從2025或2026年開始快速增長，其售價(jià)可能較傳統(tǒng)EUV設(shè)備高出50%-100%。
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