上海
《科創(chuàng)板日?qǐng)?bào)》7日訊，在第八屆進(jìn)博會(huì)上，半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商ASML展示其部分全景光刻產(chǎn)品與技術(shù)。其中，DUV光刻機(jī)包括TWINSCAN XT:260、TWINSCAN NXT:870B。《科創(chuàng)板日?qǐng)?bào)》記者獲悉，TWINSCAN XT:260這款i-line光刻機(jī)是ASML首款可服務(wù)于先進(jìn)封裝領(lǐng)域的光刻系統(tǒng)，具有大視場(chǎng)曝光，相較于現(xiàn)有機(jī)型可提高4倍生產(chǎn)效率；TWINSCAN NXT:870B在升級(jí)的光學(xué)器件和最新一代磁懸浮平臺(tái)的支持下，可實(shí)現(xiàn)每小時(shí)晶圓產(chǎn)量（wph）400片以上。（記者 陳俊清）
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