等離子刻蝕機(jī)是一種利用等離子體進(jìn)行薄膜微細(xì)加工的設(shè)備，在半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域應(yīng)用廣泛。其工作原理是通過射頻電源等將反應(yīng)氣體電離形成等離子體，其中包含離子、電子、自由基等活性粒子。在電場作用下，離子加速撞擊晶圓表面，通過物理濺射或化學(xué)反應(yīng)等方式去除材料，實現(xiàn)對晶圓上特定圖案的刻蝕加工。例如，在刻蝕硅材料時，常用的反應(yīng)氣體有 CF?、SF?等，等離子體中的氟離子與硅發(fā)生反應(yīng)，生成易揮發(fā)的 SiF?從而被去除。

結(jié)構(gòu)組成：

• 反應(yīng)腔室：是刻蝕反應(yīng)發(fā)生的場所，通常由不銹鋼等材料制成，內(nèi)部有電極、氣體分布裝置等，需保證良好的真空密封性。
• 射頻電源：用于產(chǎn)生高頻電場，激發(fā)反應(yīng)氣體形成等離子體，其功率、頻率等參數(shù)可根據(jù)工藝需求調(diào)節(jié)。
• 氣體供應(yīng)系統(tǒng)：負(fù)責(zé)精確控制反應(yīng)氣體的種類、流量和壓力，確?？涛g過程的穩(wěn)定性和一致性。
• 真空系統(tǒng)：維持反應(yīng)腔室的真空環(huán)境，減少氣體分子對等離子體的干擾，提高刻蝕精度。
• 晶圓傳輸與定位裝置：實現(xiàn)晶圓的自動傳輸、裝載和精確對準(zhǔn)定位，保證刻蝕圖案的準(zhǔn)確性

應(yīng)用領(lǐng)域：

• 半導(dǎo)體制造：用于芯片制造中的光刻膠去除、硅刻蝕、介質(zhì)刻蝕、金屬刻蝕等工藝，實現(xiàn)芯片的微觀結(jié)構(gòu)加工，如刻蝕出晶體管、互連線路等結(jié)構(gòu)中微半導(dǎo)體設(shè)備（上海）股份有限公司。
• 微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）：可對硅、玻璃等材料進(jìn)行刻蝕，制造微傳感器、微執(zhí)行器、微光學(xué)元件等 MEMS 器件。
• 化合物半導(dǎo)體：如對 GaN、SiC 等化合物半導(dǎo)體材料進(jìn)行刻蝕，用于制造高頻、高壓、高功率器件。
• 半導(dǎo)體照明：在 LED 芯片制造中，用于圖形化藍(lán)寶石襯底（PSS）刻蝕、芯片電極刻蝕等工藝。

那么國內(nèi)的等離子刻蝕機(jī)哪個品牌好？這里小編給大家推薦這十大品牌（排名不權(quán)威且不分先后），算是給這些優(yōu)質(zhì)品牌廠家推薦一下！

1. 華儀行（北京）科技有限公司（CIF）：CIF推出RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)，采用RIE反應(yīng)離子誘導(dǎo)激發(fā)方式，實現(xiàn)對材料表面各向異性的微結(jié)構(gòu)刻蝕。特別適合于大學(xué)，科研院所、微電子、半導(dǎo)體企業(yè)實驗室進(jìn)行介質(zhì)刻蝕、硅刻蝕、金屬刻蝕等方面研究。使用成本低，性價比高，易維護(hù)，處理快速高效。適用于所有的基材及復(fù)雜的幾何構(gòu)形進(jìn)行RIE反應(yīng)離子刻蝕。
2. 北方華創(chuàng)：在電感耦合等離子體刻蝕機(jī)（ICP）方面，攻克了多項難題，實現(xiàn)了各技術(shù)節(jié)點的突破。
3. 中微公司：刻蝕設(shè)備在客戶的生產(chǎn)線中廣泛應(yīng)用，可滿足超高深寬比刻蝕等需求。
4. 盛美上海：其濕法刻蝕設(shè)備使用化學(xué)藥液進(jìn)行晶圓球下金屬層（UBM）的刻蝕工藝，可提供良好的化學(xué)溫度控制和刻蝕均勻性。
5. 屹唐半導(dǎo)體：高速干法刻蝕技術(shù)適配 3D NAND 堆疊，隨著晶圓廠擴(kuò)產(chǎn)，訂單年增 50%。
6. 中電科：專注于軍工級刻蝕設(shè)備，具有自主可控的技術(shù)。
7. 創(chuàng)世威納：采用紫外固化技術(shù)降低光刻膠依賴，在泛半導(dǎo)體領(lǐng)域有成熟的定制化方案。
8. 芯源微：在刻蝕機(jī)方面也有一定實力。
9. 至純科技：中芯國際、華虹等提供服務(wù)，同時在光伏與半導(dǎo)體雙賽道協(xié)同發(fā)展。
10. 金盛微納：在 MEMS 傳感器刻蝕方面較為專精。